이 유형의 영차 파장판은 진정한 영차 파장판과 BK7 기판으로 구성됩니다. 파장판은 매우 얇고 손상되기 쉽고, BK7 판의 기능은 파장판을 강화하는 것입니다.
특징: 넓은 스펙트럼 대역폭 넓은 온도 대역폭 광각 대역폭 엑스포이에 의해 시멘트화됨 |
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품목 번호 :
WPA제품 원산지 :
FuZhou명세서:
재료:
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석영
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직경 허용 오차:
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+0.0, -0.1mm
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파면 왜곡 :
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λ/8 @ 632.8nm
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지연 허용도:
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λ/300
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병행:
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<1초각
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표면 품질:
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20/10
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클리어 조리개:
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>90%
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코팅:
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S1&S2: R<파장에서 0.2%
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표준 파장:
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355nm, 532nm, 632.8nm, 780nm, 808nm, 850nm, 980nm, 1064nm, 1310nm, 1480nm, 1550nm
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표준 제품:
반파장판 P/N#
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1/4 파장판 P/N#
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직경(mm)
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WPF210
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WPF410
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10.0
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WPF212
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WPF412
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12.7
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WPF215
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WPF415
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15.0
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WPF220
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WPF420
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20.0
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WPF225
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WPF425
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25.4
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WPF230
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WPF430
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30.0
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True Zero Order Waveplate의 기술적 장점:
진정한 영차 파장판은 단일 복굴절 재료의 정밀한 두께 설계를 통해 진정한 영차 위상 지연(다중차 중첩과 동일하지 않음)을 달성하며, 여기에는 초정밀 위상 제어, λ/1000 레벨 지연 정밀도 달성(위상 오차) 등의 기술적 이점이 있습니다. < 0.1%) 및 파장 의존성 < 350-2200nm 스펙트럼 범위 전체에서 0.5%로 기존의 다중 순서/고정 구조를 훨씬 능가합니다. 지연 변화와 함께 매우 넓은 온도 안정성을 제공합니다. < -50°C ~ 120°C에서 작동 시 1.5%의 미세화율을 제공하여 극한 환경에서 온도 제어가 필요 없습니다. 또한, 펨토초 펄스 레이저와 같은 고출력 응용 분야에 적합한 초고 레이저 손상 임계값(>20 J/cm² @ 1064nm, 10ns)을 제공합니다. 양자 얽힘 광원 시스템에서 나노미터 미만의 파장 감도는 편광 상태 충실도를 99.9% 이상으로 향상시킵니다. 극자외선(EUV) 리소그래피 장비에서는 안정적인 위상 지연을 통해 13.5nm 광원에 대해 ±0.05°의 편광 정밀도를 보장하여 나노스케일 회로 패턴의 리소그래피 해상도 최적화에 기여합니다.