193nm 글랜 레이저 프리즘 높은 광학 균일도를 가진 EUV 크리스털을 사용하여 좁은 대역폭에서 우수한 편광 안정성을 제공합니다. 정밀 패키징으로 광 경로 편차를 줄여 고정밀 심자외선 레이저 검출에 적합합니다.
특징: 공기 간격 브루스터 앵글 커팅 근처 높은 편광 순도 탈출창이 장착된 고전력 응용 분야에 적합 |
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품목 번호 :
GLP-193제품 원산지 :
FuZhou명세서:
| 재료: | EUV 결정 |
| 파장 범위: | 193.368nm |
| 멸종 비율: | <1x10-4 |
| 병행: | <1호 최소 |
| 표면 품질: | 20/10 |
| 빔 편차: | < 3분각 |
| 파형 왜곡: | λ/4@632.8nm |
| 피해 임계값: | >500MW/cm2 |
193nm 글랜 레이저 편광판
| 부품 번호 | 파장 범위(nm) | 멸종 비율 | 각도 필드(°) | CA fa(mm) | 외경 fd(mm) | 길이 ±0.1(mm) |
| GLP4006 | 193.368 | <5x10-6 | >6.0 | 6.0 | 15.0 | 29.0 |
| GLP4008 | 8.0 | 25.4 | 31.0 | |||
| GLP4010 | 10.0 | 25.4 | 31.0 | |||
| GLP4015 | 15.0 | 30.0 | 38.6 | |||
| GLP4020 | 20.0 | 38.0 | 48.9 |
기술적 이점 193nm 글랜 레이저 편광판：
193nm Glan 레이저 편광판의 기술적 장점은 높은 편광 순도를 자랑하며, 광각 입사에서도 안정적인 성능을 유지합니다. 넓은 온도 범위에서 광학적 변동을 최소화하면서 뛰어난 열 안정성을 제공합니다. 강력한 레이저 손상 저항성을 갖추고 있어 고출력 심자외선(deep-UV) 환경에 적합합니다. 심자외선 광학 시스템과 호환되고 설치가 간편하여 리소그래피 및 레이저 검출과 같은 고정밀 요구 사항을 정확하게 충족합니다.
193nm 글랜-테일러 편광판 α-BBO 복굴절 결정을 사용하여 심자외선 영역에서 접착 재료의 흡수 문제를 해결합니다. 단일층 MgF₂ 무반사 코팅은 193nm에서 높은 투과율을 보장하는 동시에 탁월한 소광 성능을 유지합니다. 높은 레이저 손상 임계값을 갖도록 설계되어 ArF 엑시머 레이저 리소그래피 및 심자외선 레이저 가공과 같은 응용 분야에서 고정밀 편광 제어에 이상적입니다. 특징: 공기 간격 브루스터 앵글 커팅 근처 높은 편광 순도 심자외선 투과
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193nm 글랜 레이저 프리즘 높은 광학 균일도를 가진 EUV 크리스털을 사용하여 좁은 대역폭에서 우수한 편광 안정성을 제공합니다. 정밀 패키징으로 광 경로 편차를 줄여 고정밀 심자외선 레이저 검출에 적합합니다. 특징:공기 간격브루스터 앵글 커팅 근처높은 편광 순도탈출창이 장착된고전력 응용 분야에 적합
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