기치

193nm 저차 파장판

딥 자외선 파장판
193nm 저차 파장판

193nm 하위 순서 파장판심자외선 편광 장치인 는 입사광의 편광 상태를 정밀하게 조정합니다. 리소그래피 및 레이저 연구와 같은 DUV 시스템에 사용되며, 안정성과 정확성을 위해 193nm 방사선 저항성 소재로 제작되었습니다.

 

특징:

두께 : 0.1-0.5mm

높은 데미지 임계값

 

  • 품목 번호 :

    WPL
  • 제품 원산지 :

    FuZhou
신제품

명세서:

재료:
석영
직경 허용 오차:
+0.0, -0.1mm
파면 왜곡:
λ/8 @ 632.8nm
지연 허용도:
λ/50
병행:
<1초각
표면 품질:
20/10
클리어 애퍼처:
>90%
코팅:
S1&S2: R<파장에서 0.2%
표준파장:
193.368nm

 

193nm 제품:

반파장판 P/N#
1/4 파장판 P/N#
직경(mm)
WPL-210-193
WPL-410-193
10.0
WPL-212-193
WPL-412-193
12.7
WPL-215-193
WPL-415-193
15.0
WPL-220-193
WPL-420-193
20.0
WPL-225-193
WPL-425-193
25.4
WPL-230-193
WPL-430-193
30.0
WPL-235-193
WPL-435-193
35.0
WPL-250-193
WPL-450-193
50.0

 

193nm 다중차수 파장판의 기술적 장점:
193nm 다차 파장판은 심자외선 파장에 맞춰 복굴절 재료를 최적화하고 이온 빔 마감 기술을 결합하여 높은 위상 지연을 달성합니다. 주요 장점으로는 위상 오차를 고려한 높은 지연 정밀도가 있습니다. <193nm 파장에서 ±1% — 이온 빔 마무리 기술을 적용하여 재료의 광학 두께에서 발생하는 미세 편차를 크게 줄여 엑시머 레이저와 같은 심자외선 레이저 시스템에 더욱 정밀한 편광 제어를 제공합니다. 컴팩트한 구조로 복잡한 캐스케이딩 설계가 필요 없어 리소그래피 시스템의 집적 심자외선 광학 모듈에 매우 적합합니다. 높은 레이저 손상 임계값(>5 J/cm² @ 193nm)은 고출력 심자외선 응용 분야에서 신뢰성을 보장합니다. 또한, 이온 빔 마무리로 형성된 매우 매끄러운 표면은 고에너지 레이저 조사 시 국부 에너지 축적 위험을 더욱 줄여줍니다. 심자외선 스펙트럼 편광 측정 시스템에서 이온 빔 마무리로 확보된 안정적인 위상 지연은 편광도 측정 오차를 2% 이내로 유지하여 포토레지스트 특성 분석 및 대기 오존층 분광법과 같은 시나리오에서 고정밀 편광 분석을 용이하게 합니다.

 

 

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